UV光氧催化装备手艺道理

（1） 废气浓度的影响：UV光催化处置VOC合用于喷涂车间、印刷、电子、制药、食物等行业产生的低浓度无机废气。当浓度低于20-200ppm时，结果***。跟着VOCs浓度的增添，降解效力也会下降。

 

（2） 低绝对湿度的影响：在必然湿度前提下，氧气接收了***局部185nm的紫外线，但跟着湿度的进一步增添，水蒸气与氧气合作，接收185nm紫外线，水蒸气接收更多185nm紫外线，产生更多的羟基自在基。水蒸气与活性氧反映天生羟基自在基。羟基自在基的氧化感化强于臭氧和活性氧，光解速度较着加速，单元时候废气去除率的进步。尝试证实绝对湿度为30-。在65%规模内，光解效力进步，但当绝对湿度***于70%时，光解效力逐步下降。

 

（3） 风速的影响：***量尝试证实，风速越***，蒸汽收支口湿度差越小。羟自在基产生的代价。是以，在低风速前提下，羟基自在基对VOC的进献很***，但在高风速下，羟基自在基对VOC降解的影响很是无限。风速也会影响紫外线灯的外表温度。灯的外表温度间接干系到紫外线灯的发光效力。当灯的外表温度高于必然值时，其发光效力将间接遭到影响。在装备尝试中，风速小于2m/s时呼应结果较***，在必然的装备空间内，风速同时会影响逗留时候。普通情况下，逗留时候增添，废气去除效力较着进步。其缘由是逗留时候增添，185nm紫外光与无机物的碰撞次数须增添。当逗留时候到达10s时，若是耽误逗留时候，废气的降解效力不会较着进步。特别在低浓度下，耽误逗留时候不能进步废气的去除效力。

 

紫外光催化污染的道理首要由光解手艺和光催化氧化手艺构成。

 

光解手艺操纵185nm短波紫外光分化废气份子，使份子链断裂。同时，氛围中的水和氧被光解天生羟基自在基。臭氧和其余氧化剂用于氧化和去除VOC。光催化氧化手艺是将纳米活性资料插手装备中，在紫外光的感化下产生更强的催化降解功效。TiO2催化剂因其价钱昂贵、来历广、紫外接收高、耐光侵蚀不变性高、催化活性高档***点，对多种无机物具有很强的吸附才能，已成为各类尝试研讨中常用的光催化剂。

 

光催化反映的首要题目是催化剂失活、能源学常数低、反映机理不可展望。同时，湿度对光催化速度有必然的按捺感化，***别是在无机废气浓度较高时。明显。是以，限定了光催化手艺在高湿度废气处置中的操纵。因为纳米资料对无机物的氧化感化、纳米资料和粘合剂的抗光催化机能、载体的催化活性和膜的安稳性依然是光催化手艺的关头手艺题目。

 

臭氧和甲苯在天然状况下不化学反映。臭氧和真空紫外可降解甲苯。254nm的紫外线能够臭氧产生氧自在基，氧自在基能够氧化废气份子。氛围中的臭氧和水蒸气在真空紫外前提下能产生羟基自在基，羟基自在基能氧化甲苯。

 

以风量为10000 m3/h、甲苯200mg/m3的废气为例，为了到达60%以上的降解率，所需的来临解局部为40（150W双频），光催化局部设置装备摆设在40（150W单波段紫外光灯）的3-4平方米光催化收集中，总功率为12千瓦。